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機 台 設 備
連續式濺鍍設備
電漿表面處理設備
立式雙門蒸濺鍍設備
O E M
塑膠表面金屬鍍膜
EMI 防電磁波干擾膜

鎂鋁合金之鍍膜

BGA 板鍍膜 , 電漿處理

電漿表面處理

   
 
 
連續式濺鍍設備
 

● 規格(Spec): 20吋,24吋,30吋,40吋

● 抽氣系統 (Pumping System):
      低真空(Low Vaccum):無油式幫浦Dry Pump、
                                             魯式幫浦RP + 助力幫浦BP
      高真空(High Vaccum):冷凍式幫浦Cryo Pump、
                                              渦輪式幫浦Turbo Pump、
                                              擴散式幫浦Diffusion Pump
● 選配項目:
      真空加熱源(Degas)
      電漿清潔(Plasma Clean)
      高真空緩衝系統 (High Vaccum Buffer System)

● 製程能力:
      DC 濺鍍(metal, ITO)
      RF 濺鍍 (Oxide)

● 控制系統:  
      PLC + iPC
      移動速度可調
      來回鍍膜次數可調
      氣體種類 / 流量可調

 

 

 

回上層
 
 

 

 

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