溅镀原理

本公司溅镀机所使用的是直流电浆溅镀。主要溅镀原理是利用电浆 的正离子轰击金属靶材表面，金属靶材表面的原子将被射入的正离子所撞击出来，向 外溅射，朝材料方向运动，进行金属薄膜沉积，这种沉积方式为物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition)中的一种方式。