濺鍍原理

本公司濺鍍機所使用的是直流電漿濺鍍。主要濺鍍原理是利用電漿 的正離子轟擊金屬靶材表面，金屬靶材表面的原子將被射入的正離子所撞擊出來，向 外濺射，朝材料方向運動，進行金屬薄膜沉積，這種沉積方式為物理氣相沉積 (Physical Vapor Deposition)中的一種方式。